Palais des congrès de Bordeaux • 13-14 juin 2018

Prix de l’innovation

 

Prix de l’innovation


Lauréat au Prix de l’Innovation SVTM 2017
Secteur des traitements des matériaux (Prix A3TS)

Le PRIX DE L’INNOVATION A3TS a été décerné à OERLIKON BALZERS pour ses nouveaux dépôts à base de MoN, une alternative pour les revêtements DLC dans les applications tribologiques sous fortes charges.

Les revêtements à base de carbone amorphe (DLC) sont utilisés depuis plusieurs années par l’industrie automobile dans les contacts tribologiques fortement sollicités. Néanmoins, ces dépôts souffrent d’une stabilité thermique parfois trop faible (~300°C, selon les conditions) ce qui limite leur application dans les moteurs « down-sized ».

C’est pourquoi Oerlikon Balzers a développé un revêtement à base d’un nitrure de molybdène (Balifor M®). Ce dernier montre une stabilité thermique élevée de 450°Cvoir 800°C avec certaines modifications, et des coefficients de frottement lubrifiés faibles et comparables au DLC associé à une très bonne compatibilité avec les additifs.

Les propriétés de ces dépôts ainsi que leur architecture multicouches peuvent être facilement adaptées aux applications visées. Un dépôt à base de MoN est déjà produit par Oerlikon Balzers en grande série sur des axes de pistons pour un moteur cinq cylindres haute puissance pour un OEM Allemand. D’autres applications comme par exemple des linguets sont actuellement sous investigation.

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Lauréat au Prix de l’Innovation SVTM 2017
Secteur des technologies du vide (Prix SFV)

Le PRIX DE L’INNOVATION SFV a été décerné à POLYGON PHYSICS pour la technologie HEXAR : un concept modulaire qui permet la génération de plasma et de faisceau d’ions adaptés au traitement des surfaces sous vide de toutes dimensions.

Les traitements de surface sous vide basés sur des faisceaux d’ions sont des technologies de base qui interviennent dans la préparation de composants dans une vaste gamme de champs d’application. Traditionnellement, le traitement de grandes superficies est fait par des sources basées sur un unique grand plasma qui exige une grande puissance au démarrage et au maintien. Pour de telles sources c’est un défi que d’assurer un plasma très uniforme sur toute la surface de traitement.

Polygon Physics a choisi une autre approche : la création d’un faisceau large à partir d’une répétition hexagonale d’une petite cavité élémentaire et contrôlé individuellement. Cette approche permet de construire des faisceaux de tailles et de formes arbitraires (linéaire, carré, circulaire, annulaire, etc.), avec l’avantage supplémentaire d’un profil de densité de courant contrôlé.
L’élément clé est l’unité de base (brevetée) : une cavité micro-onde de la taille d’un pouce, conçu sans consommable, qui fonctionne en mode ECR (résonance cyclotron électronique) avec une très faible consommation de puissance.

La première source de ce type (HEXAR-7 Ion Beam Etcher, basée sur 7 cavités, pour un faisceau de Ø80mm) est intégrée dans une enceinte de gravure par faisceau ionique.

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